Let’s work




근태 및 연차관리, 업무평가 등 모든 업무를 한 곳에서 손쉽게 관리하세요.
업무 생산성을 높이고 시간을 절약하세요!


조직 맞춤 성과관리,
국내 대표 HR 플랫폼


어떠한 목표관리 방식도 유연하고 쉽게 설정하여
우리 회사에 최적화된 성과관리를 하기 위해 시작되었습니다.


MBO, OKR 동시/개별 적용은 물론,
어떤 산업, 직무든 우리 회사에 꼭 맞는
제도를 맞춤 설정할 수 있어요.


As the line width of the semiconductor device is minimized,

the material having a high thickness as an etch mask material for forming a fine pattern has a high aspect ratio,

resulting in problems such as pattern collapse.

For this reason, a silicon hardmask material is needed that can sufficiently serve

as a mask for the substrate even at low coating thickness,

HUNETPLUS' Silicon Hardmask material is a Si-O-based material

and is a process material with high etch selectivity and low reflectivity.

Confidence with Reason,

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